日本HORIBA堀場主要營業(yè)：汽車測量儀器、環(huán)境測量儀器、科學測量儀器、醫(yī)療測量儀器、半導體測量儀器的制造和銷售。 制造和銷售與分析和測量相關(guān)的外圍設備。 與分析和測量相關(guān)的建筑業(yè)務、其他建筑業(yè)務以及與之相關(guān)的設備和設備的制造和銷售

我們相信，我們的使命是通過應用高度構(gòu)建的測量技術(shù)和**分析技術(shù)，提供高度原創(chuàng)的產(chǎn)品、分析和測量解決方案以及工程服務，為科學技術(shù)的發(fā)展、保護地球環(huán)境和實現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展的社會做出貢獻。 該業(yè)務將主要在能源與環(huán)境，生物與醫(yī)療保健以及材料和半導體領(lǐng)域發(fā)展，衍生產(chǎn)品和外圍產(chǎn)品的商業(yè)化也將有助于科學技術(shù)的發(fā)展，改善社會生活的便利性以及保護全球環(huán)境。 它也絕不能侵犯人權(quán)。 在我們的業(yè)務活動中，我們將確保人員的**放在首位。 此外，我們的業(yè)務活動符合法律法規(guī)和公司章程，并建立并運營質(zhì)量、環(huán)境、職業(yè)健康和**等管理體系。
我們將利用我們所有全球集團公司的優(yōu)勢，共享開發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務的各個功能，努力以*佳交貨時間為世界各地的客戶提供具有更高附加值的產(chǎn)品和服務。 此外，為了詳細響應客戶的各種要求，我們將注重目標業(yè)務的選擇，并希望通過高效，密集地投資業(yè)務資產(chǎn)，成為每個業(yè)務和產(chǎn)品領(lǐng)域的全球市場。

ORIBA激光粒度儀、HORIBA分析儀、HORIBA檢測器、HORIBA分析儀

日本株式會社堀場制作所是一家跨國企業(yè)，1945年開始創(chuàng)業(yè)，1971年在大阪/京都所上市，公司總部位于日本京都。今天在范圍內(nèi)，遍布22個地區(qū)的43家公司組成的堀場集團，是分析與測量系統(tǒng)供應商；共有員工5146名。公司業(yè)務主要分為環(huán)境與科學、發(fā)動機測量、醫(yī)療和半導體四大領(lǐng)域。主要產(chǎn)品有紅外碳硫儀、氧氮氫分析儀、汽車尾氣分析設備、輝光光譜儀、ICP等離子發(fā)射光譜儀、煙氣分析儀、油品分析儀等其它分析儀器，涉及冶金、環(huán)境、汽車、石油化工、有機材料等多個領(lǐng)域。

HORIBA 質(zhì)量流量控制器 SEC-Z512MGX,流量1.5l/min

HORIBA 質(zhì)量流量控制器 SEC-Z512MGX,流量10ml/min

HORIBA SIH4質(zhì)量流量計 SEC-N112MGM（SIH4，3SLM)

HORIBA NH3質(zhì)量流量計 SEC-N122MGM(NH3，10SLM)

HORIBA N2質(zhì)量流量計 SEC-N122MGR(N2，30SLM)

HORIBA 串口通訊板 3014062735

日本HORIBA堀場 科學測量儀器 如下：

日本HORIBA堀場株式會社：科學測量儀器 拉曼光譜

Jobin Yvon是光譜學領(lǐng)域的先驅(qū)，其200年的歷史是光學領(lǐng)域真正的技術(shù)**史。 今天有許多不同類型的光柵，但毫不夸張地說，以Jobin Yvon的技術(shù)為后盾的HORIBA光柵是先驅(qū)。 HORIBA 還擅長光學設計，因此根據(jù)應用，我們可以在內(nèi)部進行一致的設計，從光柵的設計到配備它的光譜儀。 該技術(shù)用于 HORIBA 的各種光譜儀，如今我們已經(jīng)確立了自己作為拉曼光譜儀全球**公司的地位。

LC-拉曼系統(tǒng) LC-拉曼系統(tǒng)軟件LiChRa?   原子力顯微鏡拉曼光譜原子力顯微鏡（AFM）-拉曼光譜集成系統(tǒng) 

原子力顯微鏡拉曼光譜 原子力顯微鏡（AFM）-拉曼光譜集成系統(tǒng)  拉布拉姆太陽酒店拉曼成像系統(tǒng)

XploRA? PLUS拉曼顯微鏡 LabRAM HR Evolution INV倒置顯微鏡激光拉曼光譜系統(tǒng) 標準顯微鏡光譜系統(tǒng)顯微光譜系統(tǒng)

日本HORIBA堀場株式會社：科學測量儀器 顆粒測量

粉末和細顆粒已廣泛應用于陶瓷、功能聚合物、食品、化妝品、制藥、化學工業(yè)、半導體、催化劑、電池材料和生命科學等許多工業(yè)和學術(shù)領(lǐng)域的研發(fā)和質(zhì)量控制，并為工業(yè)發(fā)展做出了貢獻。
為了了解各種顆粒的特性，粒徑分布（粒徑分布）、納米粒徑分布、zeta電位、分子量、圖像分析等顆粒測量是必不可少的。

HORIBA 的 Partica 系列激光衍射/散射粒度分布測量系統(tǒng)在粒度分布測量方面一直處于****地位，**著先進材料的研發(fā)和質(zhì)量的提高。 根據(jù)客戶的反饋，我們將繼續(xù)不斷發(fā)展。

帕蒂卡 LA-960V2【粒度分布】激光衍射/散射粒度分布測量裝置LA-960系列  帕蒂卡迷你LA-350激光衍射/散射粒度分布測量裝置（粒度分布）

納米帕蒂卡SZ-100V2系列納米顆粒分析儀  視圖調(diào)整器3000納米粒度分布及濃度測量裝置

帕蒂卡離心機離心式納米顆粒分析儀

日本HORIBA堀場株式會社：科學測量儀器 帕蒂卡 LA-960V2 配件

日本HORIBA堀場株式會社：科學測量儀器 納米帕蒂卡SZ-100V2配件

日本HORIBA堀場株式會社：科學測量儀器 X射線熒光

日本HORIBA堀場X射線熒光光譜法是一種根據(jù)X射線照射樣品時產(chǎn)生的X射線的能量和強度來分析物質(zhì)的組成元素和組成比例的方法。 熒光X射線的能量是為每個元素確定的。 X射線熒光的強度也與構(gòu)成樣品的元素數(shù)量有關(guān)。 X射線還具有很高的穿透材料的能力，適用于固體，液體和粉末的無損分析。

日本HORIBA堀場碳和硫分析/氧氣、氮氣和氫氣分析

日本HORIBA堀場碳硫分析儀

日本HORIBA堀場氧氣、氮氣和氫氣分析儀

日本HORIBA堀場馬庫斯高頻輝光放電發(fā)光表面分析（GD-OES）

• 從*外層到賤金屬，即使是微米級也可以在幾分鐘內(nèi)進行分析。
• 可以高靈敏度深入分析元素譜。
• 可以從 H、C、N 和 O 到 U 等輕元素進行多元素同時分析。 其中，它的特點是能夠測量B，Li和F等元素。
• 由于無需樣品制備，并且可以在大氣中進行樣品引入，因此從樣品設置到測量完成只需幾分鐘。
• 由于它是一種高頻輝光放電方法，因此可以測量玻璃和陶瓷等非導電樣品，從而擴大了要測量的材料范圍。
• 間歇濺射容易受到熱損傷。 有機薄膜和玻璃也可以以高分辨率進行測量。

日本HORIBA堀場ICP-OES光譜儀滿足各種復雜樣品測試需求

HORIBA科學儀器部開發(fā)和制造高性能和定制的ICP-OES光譜儀已超過35年。ICP-OES作為元素分析儀器的一部分，為您的特定需求提供解決方案，包括手套箱中的ICP，與ETV（Electro....）耦合的ICP和與電化學池耦合的ICP等。

日本HORIBA堀場橢圓偏振光譜法

什么是橢圓偏振光譜儀和橢圓儀？

橢圓偏振光譜（SE）測量每個波長的入射光和反射光之間的偏振變化量，根據(jù)獲得的測量數(shù)據(jù)創(chuàng)建光學模型，并執(zhí)行擬合計算以減小厚度（d?）和光學常數(shù)（折射率）n?、消光系數(shù)k?這是一種尋求非破壞性和非接觸式方法的分析方法。 使用這種分析方法的儀器稱為橢圓光譜儀。 半個多世紀以來，橢圓儀一直用于半導體工業(yè)和光學鍍膜，主要用作測量單層薄膜厚度的方法。 自20世紀末以來，橢圓光譜儀已被取代，不僅可以獲得單層薄膜厚度測量，還可以獲得大量的體積和薄膜信息，例如多層結(jié)構(gòu)的薄膜厚度，光學常數(shù)，樣品表面的粗糙度和界面條件。

橢圓偏振光譜法能分辨出什么

在橢圓偏振光譜法中，體積、表面粗糙度、薄膜厚度、光學常數(shù)（n?&k?此外，作為薄膜材料的材料特性，可以獲得很多信息，如界面狀態(tài)、結(jié)晶度、成分、光學帶隙、光學各向異性、電學性質(zhì)（電阻率、遷移率、載流子密度）和深度定向均勻性。 此外，不僅可以評估固體，還可以評估液體的光學常數(shù)和液體中的液-固界面。

薄膜厚度	光學常數(shù)	材料屬性
薄膜層（?~幾十μm） 表面氧化層 粗糙度層 接口層等	折射率（n?） 消光系數(shù) （k?）（ 吸收系數(shù) （α?））	光帶隙 結(jié)晶速率 組成 電氣特性 光學各向異性等

橢圓偏振光譜的特點

• 非破壞性和非接觸式薄膜厚度測量和薄膜質(zhì)量評估
• 高靈敏度測量，可靈敏地捕獲表面狀況的微小變化
• 厚度可達數(shù)?超薄膜~數(shù)十μm厚的薄膜
• 評估單層和多層結(jié)構(gòu)的膜厚和光學常數(shù)
• 一次確定未知材料的薄膜厚度和光學常數(shù)。
• 與反射強度無關(guān)
• 即使對于表面粗糙度（粗糙度）較大的樣品，也可以進行測量
• 液體的光學常數(shù)評估
• 液體中的液固界面評估

橢圓偏振光譜儀應用和應用

• 硅半導體和化合物半導體
• 顯示
• 能源
• 化學和材料特性
• 金屬
• 生物/生命科學
• 光學和阻隔涂層等

它不僅用于加快研發(fā)速度，還用于提高產(chǎn)量和質(zhì)量控制。