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代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設備等）、USHIO牛尾點光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機、NEWKON新光、TOKISANGYO東機產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
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特點 ■納米SAQLA的特點 一臺儀器可輕松連續(xù)測量 5 個樣本，無需自動采樣器即可實現(xiàn) 多個樣本的連續(xù)測量，也可以通過改變每個樣本的條件進行測量。 支持從稀釋到厚系統(tǒng) 標準測量時間 1 分鐘的高速測量 自動調(diào)整從厚系統(tǒng)到稀薄樣品的*佳測量位置，實現(xiàn)約 1 分鐘的高速測量 簡單易懂的測量功能（只需單擊一下即可 開始測量），無需復雜的操作 內(nèi)置非浸沒式細胞塊，無分包的無孔， 每個細胞都是獨立的，因此無需擔心不成問題。 配備 溫度梯度功能，可輕松設置溫度 ■AS50的特點 連續(xù)測量多達 50 個樣本 即使在測量過程中也能添加樣品 樣品集簡單方便（*多可批量更換 50 個樣品） 有機溶劑兼容（玻璃一次性電池） 樣品容量 *小 0.4ml
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該裝置可用于用稀釋溶液到濃縮溶液測量Zeta電位。 測量電滲透流，使用*小容量為 130μL 的一次性電池進行測量，可實現(xiàn)高精度 Zeta 電位測量。 此外，在0~90°C的寬溫度范圍內(nèi)，可以進行自動溫度梯度測量的改性和相變溫度分析。
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除了使用傳統(tǒng)稀釋溶液和濃縮溶液測量Zeta電位和顆粒直徑外，該裝置還能夠測量分子量。 對應于顆粒大小測量范圍（0.6nm 至 10μm）和濃度范圍（0.00001% 至 40%）。 測量電滲透流，使用*小容量為 130μL 的一次性電池進行測量，可實現(xiàn)高精度 Zeta 電位測量。 此外，在0~90°C的寬溫度范圍內(nèi)，可以進行自動溫度梯度測量的改性和相變溫度分析。
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[通過光散射評估物理性能在 ELSZneo 中進入一個新的階段] 除了在 ELSZseries 的**型號上用稀釋溶液到濃縮溶液測量 Zeta 電位和顆粒直徑外，該裝置還允許分子量測量。 作為一項新功能，我們采用了多角度測量，以提高顆粒大小分布的分離能力。 此外，還可以進行顆粒濃度測量、微流變測量和凝膠網(wǎng)絡結構分析。 新開發(fā)的 Zeta 電位平板電池單元采用新開發(fā)的高鹽濃度涂層，可在高鹽濃度環(huán)境中（如鹽水）進行測量。 我們還推出了超微量電池單元，可在 3μL 下測量顆粒大小，為生命科學領域擴展了可能性。
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除了常規(guī)的 zeta 電位和粒度測量外，它是一種可以測量分子量的設備，可通過稀溶液至濃溶液進行測量。 支持粒度測量范圍（0.6 nm 至 10 μm）和濃度范圍（0.00001% 至 40%）。可以使用*小容量為 130 μL 或更大的一次性樣品池進行測量，通過實際測量電滲流來實現(xiàn)高精度的 zeta 電位測量。 此外，通過在0～90°C的寬溫度范圍內(nèi)進行自動溫度梯度測量，可以進行變性/相變溫度分析。
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支持OLED用偏光板、層疊型相位差板、IPS液晶相位差板偏光板等各種薄膜的相位差測量裝置。 實現(xiàn)與超高 Re.60000 nm 兼容的高速、高精度測量。 可以“無剝離”和“無損”測量薄膜的層壓狀態(tài)。 此外，它配備了簡單的軟件和校正功能，支持由于樣品重新定位而導致的錯位，從而實現(xiàn)簡單且高精度的測量。
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它是一種可以在在線薄膜生產(chǎn)現(xiàn)場測量薄膜厚度的設備。 通過將開創(chuàng)的光譜干涉儀與新開發(fā)的高精度膜厚計算處理技術相結合，可以以 0.01 秒的測量間隔以*短的。
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除了可以進行高精度薄膜分析的光譜橢偏儀外，我們還通過實現(xiàn)測量角度的自動可變機構來支持所有類型的薄膜。除了傳統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)式光子檢測器方法外，還通過提供相位差板的自動裝卸機構提高了測量精度。
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它是一種緊湊且價格低廉的薄膜厚度計，通過高精度光學干涉法實現(xiàn)薄膜厚度測量，操作簡單。 我們采用一體式外殼，將必要的設備容納在主體中，實現(xiàn)穩(wěn)定的數(shù)據(jù)采集。 可以通過以低廉的價格獲得優(yōu)良反射率來分析光學常數(shù)。
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OPTM 是一種通過使用顯微光譜法測量微小區(qū)域的優(yōu)良反射率，實現(xiàn)高精度薄膜厚度和光學常數(shù)分析的設備。 各種薄膜、晶片、光學材料和多層薄膜等涂膜的厚度可以非破壞性和非接觸方式測量。測量時間為1秒/點的高速測量是可能的。它還配備了軟件，即使是初學者也可以輕松分析光學常數(shù)。
