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產品詳情

  • 產品名稱：代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測量儀FE-300

  • 產品型號：
  • 產品廠商：OTSUKA大塚電子
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簡單介紹：
代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測量儀FE-300 多功能橢偏儀 橢偏儀系統 橢圓偏振光測量儀
詳情介紹：

產品信息

特點
  • 支持從薄膜到厚膜的廣泛薄膜厚度
  • 使用反射光譜進行薄膜厚度分析
  • 緊湊、低成本、非接觸式、無損、高精度測量
  • 易于設置條件和測量操作！ 任何人都可以輕松測量薄膜厚度
  • 通過峰值巴雷法、頻率分析法、非線性*小二乘法、優化法等多種膜厚度測量
  • 非線性*小二乘法的厚度分析算法允許光學常數分析（n：折射率、k：消光計數）

 

測量項目
  • **反射率測量
  • 薄膜厚度分析（10層）
  • 光學常數分析（n：折射率，k：消光計數）

 

測量對象
  • 功能膜、塑料
    透明導電膜（ITO、銀納米線）、緩速膜、偏振膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、粘合劑、保護膜、硬涂層、防指紋劑等。
  • 半導體
    化合物半導體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、Sapphire 等。
  • 表面處理
    DLC 涂層、防銹劑、防霧劑等
  • 光學材料
    過濾器、AR 涂層等
  • FPD
    LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機膜、密封劑）等
  • 其他
    硬盤、磁帶、建筑材料等

 

原則

測量原理

Otsuka 電子采用光干涉法和內部制造的高精度分光光度計，可實現非接觸式、無損和高速高精度薄膜厚度測量。 光干涉法是一種利用光學系統獲得的反射率來確定光學厚度的方法，如圖2所示。該光學系統使用光譜光度計獲得光學厚度。 以涂覆在金屬基板上的膜為例，從目標樣品上方入射的光在膜表面反射（R1）。 此外，通過薄膜（R2）的光在基板（金屬）或膜界面反射。 測量由光路差引起的相位偏移引起的光干涉現象，并從獲得的反射光譜和折射率計算薄膜厚度的方法稱為光干涉法。 有四種分析方法：峰巴雷法、頻率分析法、非線性*小二乘法和優化法。

薄膜厚度測量原理圖


規格

手勢
測量波長范圍 300～800nm
測量膜厚度范圍
（SiO2轉換） 		3nm～35μm
點直徑 φ1.2mm
樣本大小 φ200×5(H)mm
測量時間 0.1~10s以內
電源 AC100V±10% 300VA
尺寸、重量 280（W)×570（D)×350（H）mm、24kg
其他 參考板，食譜創建服務

 

 

軟件屏幕


塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司代理、直營各日本品牌工業產品，聯系人：張小姐

聯系電話：15902189399  

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