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產品詳情
  • 產品名稱:UVISEL Plus In-Situ在線監控橢偏儀浙江供應

  • 產品型號: UVISEL Plus In-Situ
  • 產品廠商:HORIBA堀場
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簡單介紹:
UVISEL Plus In-Situ在線監控橢偏儀浙江供應UVISEL Plus在線監控橢偏儀可以很容易的安裝在各類反應腔(PECVD、MOCVD、磁控濺射、蒸鍍、ALD和MBE),實時監控薄膜沉積或刻蝕過程。UVISEL Plus在線橢偏儀結合了速度快、靈敏度高、動態范圍寬和準確等優點,使其能夠在原子層水平監控沉積/刻蝕,即使過程速度比較快也可實現。
詳情介紹:

UVISEL Plus In-Situ在線監控橢偏儀浙江供應

UVISEL Plus在線監控橢偏儀可以很容易的安裝在各類反應腔(PECVD、MOCVD、磁控濺射、蒸鍍、ALD和MBE),實時監控薄膜沉積或刻蝕過程

UVISEL Plus在線橢偏儀結合了速度快、靈敏度高、動態范圍寬和準確等優點,使其能夠在原子層水平監控沉積/刻蝕,即使過程速度比較快也可實現。

采用新型適配器組件可以實現臺式設備和在線系統的切換。

UVISEL Plus在線橢偏儀使用DeltaPsi2軟件驅動,該軟件適用于HORIBA所有橢偏儀。DeltaPsi2具有眾多先進的建模和擬合處理功能,操作界面簡單,可為研究者提供便捷的橢偏分析手段。先進的通訊協議,TCP/IP和RS232已被設計用于生產環境和OEM。

  • 高速、準確
  • 完整集成了實時測量、建模和報告軟件包
  • 便于在線和離線間切換

 

可獲得的信息

  • 薄膜厚度
  • 光學常數(n,k)
  • 材料組成
  • 光譜范圍:190-885 nm,可擴展至 190-2100 nm
  • 光源:75W氙燈或150W氙燈
  • 探測系統:單點或實時光譜采集使用高靈敏度,寬動態范圍的PMT探測器和掃描單色儀,原位監控薄膜沉積/蝕刻
  • 光斑尺寸@300:50μm , 100μm & 1mm
  • 機械適配器:CF35或KF40法蘭


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